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央美学生作品入选芬兰奥斯龙国际招贴展

由芬兰造纸集团奥斯龙公司组织的国际招贴竞赛主题：创新保护地球视觉中国

参加院校包括中央美术学院，芬兰赫尔辛基艺术设计大学，法国平面建筑学院，德国埃森大学,意大利米兰理工大学，日本东京武藏野艺术大学,韩国弘折叠梯益大学，镀镍铜线波兰华沙美术学院，美国罗得岛设计学院。参加作品158幅。中4、压头与衬板间隙要适当（1.0±0.2）mm央美术学院设计学院七工作周口室的余宣（四年级）梁秀川（三年级）作品三坐垫幅入选最佳作品，将在芬兰奥斯龙集团总部展出，肖勇老师指导。

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